上海光机所计算光刻技术研究取得进展

分享到:

近日,中国科学院上海光学精密机械研究所信息光学与光电技术实验室提出一种基于虚拟边(Virtual Edge)与双采样率像素化掩模图形(Mask pixelation with two-phase sampling)的快速光学邻近效应修正技术(Optical proximity correction, OPC),仿真结果表明该技术具有较高的修正效率。

光刻是极大规模集成电路制造的关键技术之一,光刻分辨率决定集成电路的特征尺寸。随着集成电路图形的特征尺寸不断减小,光刻系统的衍射受限属性导致明显的光学邻近效应,降低了光刻成像质量。在光刻机软硬件不变的情况下,采用数学模型和软件算法对照明模式、掩模图形与工艺参数等进行优化,可有效提高光刻分辨率、增大工艺窗口,此类技术即计算光刻技术(Computational Lithography)。该技术被认为是推动集成电路芯片按照摩尔定律继续发展的新动力。

 

OPC技术通过调整掩模图形的透过率分布修正光学邻近效应,从而提高成像质量。基于模型的OPC技术是实现90nm及以下技术节点集成电路制造的关键计算光刻技术之一。上海光机所科研人员提出的这种基于虚拟边与双采样率像素化掩模图形的快速光学邻近效应修正技术,能够将不同类型的成像失真归结为两种类型的成像异常,即内缩异常与外扩异常。利用不同的成像异常检测模板,依次在掩模图形的边缘和拐角等轮廓偏移判断位置进行局部成像异常检测,确定异常类型及异常区域的范围。根据异常检测位置与异常区域范围,自适应产生虚拟边。通过移动虚拟边调整掩模的局部透过率分布,从而修正局部成像异常。借助修正策略和修正约束,实现高效的局部修正和全局轮廓保真度控制。另外,双采样率像素化掩模充分利用了成像系统的衍射受限属性,在粗采样网格上进行成像计算与异常检测,在精采样网格上进行掩模修正,兼顾了成像计算效率与掩模修正分辨率。利用多种掩模图形进行验证,仿真结果表明该OPC技术的修正效率优于常用的基于启发式算法的OPC技术。

相关研究成果发表在Optics Express上。研究工作得到国家重大科技专项和上海市自然科学基金项目的支持。

基于虚拟边的成像异常修正,(a)外扩异常修正,(b)内缩异常修正

 

继续阅读
人工智能计算中心多点开花,为城市装上“最强大脑”

深圳市龙岗区在应对城市治理的挑战时,搭建了集约化城市AI算力平台,覆盖到城市治理、安全生产、生态环境、公共安全、综合治理等6个领域的40多个场景,以统一、共享的AI服务加速城市治理走向智能化;

AI 将计算推向边缘

谈到过去几年的流行语,边缘计算与 5G 和 AI 相得益彰。但是 Eclipse 基金会的一项调查结果表明,边缘计算实际上正在企业中取得进展,并且部署速度比它们中的任何一个都要快。

上海完善智慧交通基础设施

2015年6月,上海成为工信部批复的国内首个智能网联和无人驾驶试点城市,创新形成了“全车型、全出行链、全风险类别、全测试环节和融合新基建基础设施”的测试场景布局。目前,上海已累计开放243条560公里测试道路,测试场景超过5000个,累计向23家企业155辆车颁发了道路测试和示范应用资质(含示范应用牌照105张),测试总里程超140万公里。

上海光机所计算光刻技术研究取得进展

近日,中国科学院上海光学精密机械研究所信息光学与光电技术实验室提出一种基于虚拟边(Virtual Edge)与双采样率像素化掩模图形(Mask pixelation with two-phase sampling)的快速光学邻近效应修正技术(Optical proximity correction, OPC),仿真结果表明该技术具有较高的修正效率。

量子计算和传感:工程师首次证明量子计算比经典计算系统更具优势

亚利桑那大学工程学院和James C. Wyant光学科学学院的研究人员通过实验证明了量子资源不仅仅是遥远的未来的梦想--它们可以改善今天的技术。量子计算和量子传感有可能比它们的经典对应物强大得多。一个完全实现的量子计算机不仅可以在几秒钟内解决经典计算机需要数千年的方程式,而且可以对从生物医学成像到自动驾驶等领域产生不可估量的影响。